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大功率无液滴高光弧PVD真空设备与先进工模具涂层解决方案

大功率无液滴高光弧PVD真空设备与先进工模具涂层解决方案

分类:涂层技术与真空镀膜机 831

纳狮Spark高光弧技术,广泛用于3C高光刀涂层应用。相较于传统的过虑弧多弧离子镀,甚至最新的Hipims高频磁控溅射,液滴明显及膜缺陷显著减少。

01 常见PVD设备工艺对比

 

纳狮Spark无液滴技术再创新突破: 以TiN 涂层为例,厚度2.5um,沉积速率0.5um/h,Ra<0.05um,硬度34Gpa.

纳狮无液滴涂层

多弧离子镀 磁控溅射 纳狮Spark高光弧
靶材材料受限

表面粗糙度高>Ra0.2

离化率高>60%

沉积速率高>1um/h

溅射材料丰富

表面粗糙度低Ra0.05

离化率低20%-40%

沉积速率低0.35um/h

溅射材料丰富

表面粗糙度低<Ra0.05

离化率低>90%

沉积速率低0.5um/h

 

02 高光弧工艺特点

  • 高光弧涂层:镀膜更硬更少液滴
    高光弧涂层技术特点
  • 高光弧涂层:减小表面粗糙度可减小表面润湿性,起到抗沾粘效果
    高光弧纳米涂层抗粘粘
  • 高光弧涂层:较少涂层液滴,缺陷更少,涂层更致密
    低缺陷,纳米涂层更致密

03 纳狮高光弧真空镀膜设备

纳狮PVD、PECVD、DLC工艺真空镀膜设备,适用于刀具涂层、模具涂层、零件涂层及医疗生物涂层。提供整厂软硬件交钥匙输出方案,并提供“陪跑”服务,真正帮助客户讲真空镀膜哦设备用好用得起来。

M850 高光弧设备

04 高光弧刀具Ta-c涂层应用

使用Ta-C涂层可以有效提升刀具寿命,降低加工成本,提升产品质量。

高光刀具涂层应用

 

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