——MX600，维护方便，镀膜质量稳定，高靶材利用率

高度灵活的定制涂层设备

根据客户应用需求，提供多种尺寸、多种硬件配置、各种离子源技术的PVD涂层设备。

双清洗系统，保证结合力更胜一筹

SET氩离子刻蚀系统、MET金属刻蚀系统可以增强硬质涂层与基材结合力。

AFC阴极模块

通过调整阴极磁场的布局， 改变水平磁场和轴向磁场分量， 确保弧光跑动速度和细化。 先进的高能离子源可有效减少涂层液滴， 满足大多数单层， 多层， 纳米层的涂层生产。 尤其在3C铣刀领域表现突出。

软硬件加速，降低成本

• 参考涂层时间：低于1小时完成3μm TiAlN
• 键操作，从炉体升温，抽真空，清洗，镀膜，降温智能完成
• 多类型挂具，高效加工常规刀具和模具
• 磁悬浮分子泵，缩短抽真空时间，并保证真空度
• 双清洗系统，保证了高效的刻蚀速率和均匀性
• 高功率快速加热系统，缩短加热时间高能离子源，大幅提升涂层沉积速率氮气+可调温高纯冷却水，双循环快速冷却大尺寸工件

针对刀具&模具的涂层性能优化

• 独特的离子溅镀技术，纳米级直径粒子，能够很好的保持模具的镜面与蚀纹效果的同时，拥有高附着力

• 涂层数据库，针对不同类别产品甚至不同大小，定制不同涂层和制程
• 非常熟悉中国材料和应用环境
• 大量为客户应用开发的定制涂层

技术参数

• 尺寸规格： 4500mm x5500mm x 2500mm
• 涂层有效容积: φ680mm x（H）600mm
• 最大有效负载: 500kg
• 电弧阴极数: 8个
• 涂层技术: 电弧离子镀
• 参考涂层时间: 低于1小时完成3μm TiAlN

设备炉量

部分合作PVD镀膜设备